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四氟化碳是一種無(wú)色、無(wú)臭、不燃的可壓縮惰性氣體。它是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。 在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。

電子級(jí)四氟化碳技術(shù)指標(biāo)：

包裝容器：規(guī)格齊全，按客戶(hù)要求配置。